Intel将加快0.09微米制造工艺进程

Intel公司总裁Craig Barrett日前表示将加快90纳米(0.09微米)制造工艺的进程，该工艺最早可能将在2003年初投入应用。首款采用0.09微米工艺的芯片有望在2003年第一季度面世。现在Intel的微处理器和其它芯片采用的都是0.13微米工艺。

Intel将90纳米制造工艺称为"P862"和"P1262"。P862工艺基于8英寸晶圆，而P1262采用300mm晶圆。该工艺基于铜互连、低K电介质等技术。

Barrett还表示2001年Intel的资本支出将为75亿美元，符合原来的目标。他没有透露2002年的开支计划，但此前Intel的官员曾表示明年的开支将比2001年减少10-20%。而IC Insights公司认为明年Intel的资本支出将下滑到45亿美元。

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